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据报导2023年海内消息,这款国产光刻机的套刻精度到达了≤8纳米,这在干式深紫外(DUV)光刻机范畴,曾经到达了相称高的程度
据报导2023年海内消息,这款国产光刻机的套刻精度到达了≤8纳米,这在干式深紫外(DUV)光刻机范畴,曾经到达了相称高的程度。固然与环球开始进的极紫外(EUV)光刻机比拟,另有两代手艺的差异,但思索到我国在EUV光刻构造键手艺上的打破,这一前进显得尤其注目科学手艺立异。
近期,我国科技范畴传来奋发民气的动静,一款全新的国产光刻机在业界惹起了普遍存眷。这款光刻机的暴光,无疑是我国科技自力更生门路上的又一主要里程碑,标记着我国在半导体系体例作配备范畴的气力进一步加强。虽然与国际顶尖程度比拟,这款光刻机仍存在必然的差异2023年海内消息,但其手艺前进和潜伏影响不容无视2023年海内消息。
值得留意的是科学手艺立异科学手艺立异,这款光刻机的亮类似乎是对近期国际芯片制裁的一种回应科学手艺立异。跟着国际情势的庞大变革,美国对中国芯片财产的限定不竭晋级,而这款国产光刻机的呈现,无疑为我国芯片制作财产供给了新的能够,有助于减缓对外洋手艺的依靠,提拔我国在汽车、家电等产业品范畴的国际合作力。返回搜狐,检察更多
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